Polymorphs of silicon carbide

Many compound materials exhibit polymorphism, that is they can exist in different structures called polymorphs. Silicon carbide (SiC) is unique in this regard as more than 250 polymorphs of silicon carbide had been identified by 2006,[1] with some of them having a lattice constant as long as 301.5 nm, about one thousand times the usual SiC lattice spacings.[2]

The polymorphs of SiC include various amorphous phases observed in thin films and fibers,[3] as well as a large family of similar crystalline structures called polytypes. They are variations of the same chemical compound that are identical in two dimensions and differ in the third. Thus, they can be viewed as layers stacked in a certain sequence. The atoms of those layers can be arranged in three configurations, A, B or C, to achieve closest packing. The stacking sequence of those configurations defines the crystal structure, where the unit cell is the shortest periodically repeated sequence of the stacking sequence. This description is not unique to SiC, but also applies to other binary tetrahedral materials, such as zinc oxide and cadmium sulfide.

Categorizing the polytypes

A shorthand has been developed to catalogue the vast number of possible polytype crystal structures: Let us define three SiC bilayer structures (that is 3 atoms with two bonds in between in the illustrations below) and label them as A, B and C. Elements A and B do not change the orientation of the bilayer (except for possible rotation by 120°, which does not change the lattice and is ignored hereafter); the only difference between A and B is shift of the lattice. Element C, however, twists the lattice by 60°.

3C structure

Using those A,B,C elements, we can construct any SiC polytype. Shown above are examples of the hexagonal polytypes 2H, 4H and 6H as they would be written in the Ramsdell notation where the number indicates the layer and the letter indicates the Bravais lattice.[4] The 2H-SiC structure is equivalent to that of wurtzite and is composed of only elements A and B stacked as ABABAB. The 4H-SiC unit cell is two times longer, and the second half is twisted compared to 2H-SiC, resulting in ABCB stacking. The 6H-SiC cell is three times longer than that of 2H, and the stacking sequence is ABCACB. The cubic 3C-SiC, also called β-SiC, has ABC stacking.[5]

Physical properties

تتميز الأشكال البلورية المختلفة لكربيد السيليكون بخصائص فيزيائية متفاوتة على نطاق واسع. يتميز كربيد السيليكون 3C-SiC بأعلى حركية إلكترونية وسرعة تشبع نظرًا لانخفاض تشتت الفونونات الناتج عن التناظر العالي . تختلف فجوات الطاقة اختلافًا كبيرًا بين الأشكال البلورية، حيث تتراوح من 2.3 إلكترون فولت لكربيد السيليكون 3C-SiC إلى 3 إلكترون فولت في كربيد السيليكون 6H-SiC إلى 3.3 إلكترون فولت في كربيد السيليكون 2H-SiC. بشكل عام، كلما زاد مكون الورتزيت، زادت فجوة الطاقة. من بين الأشكال البلورية لكربيد السيليكون، يُعد 6H الأسهل تحضيرًا والأكثر دراسة، بينما يجذب الشكلان 3C و4H اهتمامًا متزايدًا لخصائصهما الإلكترونية المتميزة. إن تعدد الأشكال البلورية لكربيد السيليكون يجعل من الصعب إنتاج مادة أحادية الطور، ولكنه يوفر أيضًا بعض المزايا المحتملة - فإذا أمكن تطوير طرق نمو البلورات بشكل كافٍ، فسيكون من الممكن تحضير وصلات غير متجانسة من أشكال بلورية مختلفة لكربيد السيليكون وتطبيقها في الأجهزة الإلكترونية. [ 5 ]

ملخص الأنماط المتعددة

لكل رمز في بنية كربيد السيليكون معنى محدد: يشير الرقم 3 في 3C-SiC إلى دورية التراص الثلاثية الطبقات (ABC)، بينما يرمز الحرف C إلى التناظر المكعب للبلورة. يُعد 3C-SiC الشكل البلوري المكعب الوحيد الممكن. أما تسلسل التراص ABAB... فيُرمز له بـ 2H-SiC، مما يدل على دورية التراص الثنائية الطبقات والتناظر السداسي . تتضاعف هذه الدورية وتتضاعف ثلاث مرات في الشكلين البلوريين 4H- و6H-SiC. تُصنف عائلة الأشكال البلورية المعينية الأوجه بالحرف R، على سبيل المثال، 15R-SiC.

خصائص الأنواع المتعددة الرئيسية لـ SiC [ 6 ] [ 7 ] [ 8 ] [ 9 ] [ 10 ] (Z هو عدد الذرات لكل وحدة خلية)
متعدد الأنواعالمجموعة الفضائيةZرمز بيرسونثوابت الشبكةفجوة النطاق ( إلكترون فولت )نسبة الشكل السداسي (%)
اسملاأ ( Å )ج ( أنغستروم )
3Cتيد2-F43م{\displaystyle \mathrm {T_{d}^{2}{\mbox{-}}F43m} }2162cF84.35964.35962.30
2Hج6v4-P63مج{\displaystyle \mathrm {C_{6v}^{4}{\mbox{-}}P6_{3}mc} }1864hP43.07305.04803.3100
4 ساعات8hP810.0533.250
6 ساعات12hP1215.113.033.3
8 ساعات16hP1620.1472.8625
10 ساعاتP3م1{\displaystyle \mathrm {P3m1} }15610hP203.073025.1842.820
19 ساعة19hP3847.8495
21 ساعة21hP4252.87
27 ساعة27hP5467.996
36 ساعة36hP7290.65
9R [ 11 ]ج3v5-R3م{\displaystyle \mathrm {C_{3v}^{5}{\mbox{-}}R3m} }1609hR183.03722.6033.23366.6
15R15hR303.073037.73.040
21R21hR4252.892.8528.5
24R24hR4860.492.7325
27R27hR5467.9962.7344
33R33hR6683.1136.3
45R45hR90113.3340
51R51hR102128.43735.3
57R57hR114143.526
66R66hR132166.18836.4
75R75hR150188.88
84R84hR168211.544
87R87hR174219.1
93R93hR186234.17
105R105hR210264.39
111R111hR222279.5
120R120hR240302.4
141R141hR282355.049
189R189hR378476.28
393R393hR786987.60

انظر أيضاً

مراجع

  1. ريبيكا تشيونغ (2006). أنظمة كربيد السيليكون الكهروميكانيكية الدقيقة للبيئات القاسية . مطبعة إمبريال كوليدج. ص  3. ISBN 1-86094-624-0.
  2. جيه إف كيلي وآخرون (2005). "العلاقة بين سُمك الطبقة ودورية الأنماط المتعددة الطويلة في كربيد السيليكون" (ملف PDF) . نشرة بحوث المواد . 40 (2): 249-255 . doi : 10.1016/j.materresbull.2004.10.008 . 
  3. لاين، ريتشارد م. (1993). "طرق البوليمر ما قبل الخزفي إلى كربيد السيليكون". كيمياء المواد . 5 (3): 260-279 . doi : 10.1021/cm00027a007 .
  4. رامسديل، إل إس، دراسات حول كربيد السيليكون ، المجلة الأمريكية للمعادن 32، (1945)، ص 64-82
  5. موركوتش ، هـ . (1994). "تقنيات أجهزة أشباه الموصلات القائمة على كربيد السيليكون ذي فجوة النطاق الكبيرة، ونيتريد III-V، وZnSe II-VI". مجلة الفيزياء التطبيقية . 76 (3): 1363-1398 . Bibcode : 1994JAP....76.1363M . doi : 10.1063/1.358463 .
  6. "خصائص كربيد السيليكون (SiC)" . معهد إيوف . تم الاطلاع عليه بتاريخ 2009-06-06 .
  7. يون سو بارك، ويلاردسون، إيك آر ويبر (1998). مواد وأجهزة كربيد السيليكون . دار النشر الأكاديمية. الصفحات 1-18 . ISBN  0-12-752160-7.{{cite book}}: صيانة CS1: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين ( رابط )
  8. إس. أداتشي (1999). الثوابت البصرية لأشباه الموصلات البلورية وغير البلورية: بيانات عددية ومعلومات بيانية . سبرينغر. ISBN 0-7923-8567-5.
  9. ^ دبليو جي تشويكي. هيرويوكي ماتسونامي؛ جيرهارد بنسل (2003). كربيد السيليكون: التطورات الرئيسية الأخيرة . سبرينغر. ص. 430. ردمك  3-540-40458-9.
  10. ناكاشيما، س. (1991). "ملامح شدة رامان وبنية التراص في متعددات أنواع كربيد السيليكون". اتصالات الحالة الصلبة . 80 (1): 21-24 . Bibcode : 1991SSCom..80...21N . doi : 10.1016/0038-1098(91)90590-R .
  11. يعقوبي، أ. (2018). "التنبؤ بالشكل الأولي لكربيد السيليكون المعيني (9R-SiC): مسار نحو الوصلات غير المتجانسة متعددة الأنماط". نمو البلورات وتصميمها . 18 (11): 7059-7064 . doi : 10.1021/acs.cgd.8b01218 .
  • نبذة تاريخية عن كربيد السيليكون، د. ج. ف. كيلي، جامعة لندن
  • صحيفة بيانات سلامة المواد لكربيد السيليكون